julia中文字幕在线看,樱桃视频看黄的APP,午夜1000电影 http://www.monihotel.com 致力于特種氣體、高純氣體、超純氣體、稀有氣體的銷售，氣體配套設 備的生產與建設，強調一站式氣體服務。 Wed, 11 Dec 2024 09:43:18 +0000 zh-CN hourly 1 https://wordpress.org/?v=6.3.1 http://www.monihotel.com/wp-content/uploads/2023/03/cropped-1468986284_副本-32x32.png 電子氣體 – 成都氙氚科技有限公司 http://www.monihotel.com 32 32 溴化氫氣體Hydrogen bromide, HBr http://www.monihotel.com/product/hydrogen-bromide-hbr-electron-gas/ Fri, 17 Mar 2023 03:47:48 +0000 https://www.xenon-gas.com/?post_type=product&p=1259 CAS?NO ?10035-10-6 UN?NO ?3265 EINECS NO ?233-113-0 Molecular weight ?80.91 Appearance

Light yellow, brown

Melting point ?-87℃ Boiling point ?-67℃ Density

1.49 g/mL at 25 °C (lit.)

DOT Class ?2.3 Label corrosives

 

]]> 溴化氫是一種無機化合物，可與水混溶，在無色氣體的標準條件下可與乙醇、乙酸混溶。水溶液為溴化氫，無色或微黃色。它有一種類似鹽酸的刺激性氣味，有輕微的煙熏現象，當暴露在空氣或陽光下時，由于游離溴，顏色會逐漸變暗。氫溴酸還原性強，酸性強，有輕微煙霧。它可以被氧氣和空氣中的其他氧化劑氧化成元素溴。它能與甲氧基反應生成溴甲烷，與堿反應生成溴化物。

產品應用

用作分析試劑測定的硫和硒、砷、銻、錫的分離和測定鉍、鋅和鐵。

在石化領域作為烷基化催化劑;它也是一種很好的溶劑金屬礦產和基本原材料生產各種無機溴化物和烷基溴化物

在醫學上,用于合成鎮靜劑和麻醉劑;

氣體純度

Specification99.9%
HCI＜ 0.01
O216
N228
CO＜1
CO25
CH4＜1
Moisture45
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包裝信息

名稱純度氣瓶容積充裝量閥門型號
溴化氫99.9%8L5KgCGA330
溴化氫99.9%40L50KgCGA330
溴化氫99.999%47L50KgDISS632
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]]> 乙硼烷 Diborane, B2H6 http://www.monihotel.com/product/diborane-b2h6-electron-gas/ Fri, 17 Mar 2023 02:44:49 +0000 https://www.xenon-gas.com/?post_type=product&p=1210 CAS?NO ?19257-45-7 UN?NO ?1911 EINECS NO ?203-448-7 Molecular weight ?27.67 Appearance ?Colorless gas Melting point ?-165 ℃ Boiling point ?-92.5 ℃ Density ?1.18kg/m3 DOT Class ?2.3 Label flammable Gas

 

]]> 乙硼烷，是一種無機化合物，是能分離出的最簡單的硼烷，化學式為B2H6，有劇毒??，常溫下為無色氣體，用作火箭和導彈的高能燃料，也用于有機合成。

用作高純度硼單晶及十硼氫的原料，也用作半導體工業的摻雜源。可用作火箭和導彈的高能燃料，也可用于半導體生產，硅和鍺的外延生長、鈍化、擴散和離子注入。用于制藥、金屬焊接和有機合成等領域。

產品應用

主要用于還原劑在有機合成、橡膠硫化劑,硼氫化合物中間體,半導體制造的擴散和氧化、外延生長、化學氣相沉積、精細陶瓷。

電子級乙硼烷主要用于火箭和導彈高能燃料、金屬焊接、制藥和芳香產業。

氣體純度

Specification＞99.999%
B2H620.05ppm
H2balance gas
DIBORANE AS ASSAY＞99.999%
N20.30ppm
O20.10ppm
CH40.03ppm
CH3ClND＜0.1ppm
CO20.02ppm
COND＜0.02ppm
C2H60.30ppm
H2O＜0.5ppm
HYDROGEN AS ASSAY＞99.9999%
O2+Ar0.05ppm
N20.20ppm
COND＜0.01ppm
CO2ND＜0.01ppm
CH40.01ppm
H2O0.13ppm
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包裝信息

Cylinder CapacityValve
47LDISS632
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]]> 三氟化硼，Boron trifluoride, BF3 http://www.monihotel.com/product/boron-trifluoride-bf3-specialty-gas/ Fri, 17 Mar 2023 02:34:18 +0000 https://www.xenon-gas.com/?post_type=product&p=1209 CAS?NO ?7637-07-2 UN?NO ?1008 EINECS NO 231-569-5 Molecular weight ?67.806 Appearance colourless, pungent odor Melting point ?-126.8 ℃ Boiling point ?-99.9 ℃ Density 3.076kg/m3 DOT Class ?2.3&8 Label Toxic Gas, Corrosives

 

]]> 三氟化硼，是一種無機化合物，化學式為BF3，為無色氣體，溶于冷水、濃硫酸和多數有機溶劑，主要用作有機合成中的催化劑，也用于制造火箭的高能燃料。

產品應用

用于制造火箭的高能燃料。

BF3作為催化劑在有機合成,作為有機硼化物的合成的原料,也用于核能技術和光纖。

電子特氣三氟化硼主要用于半導體器件和集成電路生產中離子注入和摻雜。

氣體純度

Specification99.5%
Air﹤4000 ppm
Sulfur Dioxide﹤30 ppm
Silicon Tetrafluoride﹤350 ppm
Sulfate Radical﹤15 ppm
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包裝信息

Cylinder CapacityValveWeight
40LCGA33020 kgs
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]]> 三氟甲烷，Trifluoromethane, CHF3 http://www.monihotel.com/product/trifluoromethane-chf3-electron-gas/ Fri, 17 Mar 2023 01:42:11 +0000 https://www.xenon-gas.com/?post_type=product&p=1193 CAS?NO ?75-46-7 UN?NO ?1984 EINECS NO ?200-872-4 Molecular weight ?70.01 Appearance ?Colorless, odorless Melting point ?-160 ℃ Boiling point ?-84℃ Density ?1.246 DOT Class ?2.2 Label ?Non-flammable Gas

 

]]> 三氟甲烷，是一種有機化合物，化學式為CHF3，常溫常壓下為無色氣體，溶于水、乙醇、丙酮，主要用作低溫致冷劑、滅火劑和制造四氟乙烯的原料。

產品應用

在電子產業中，三氟甲烷可用作等離子體化學蝕刻劑，在二氧化硅膜刻蝕方面具有速度快、選擇性優等特點。

主要用作低溫致冷劑、滅火劑和制造四氟乙烯的原料。

氣體純度

Specification99.9%
Moisture≤ 2 ppm
Acidity (as HF)≤0.1 mg/kg
Reside on evaporation≤0.01 %
Foul gas in air phase≤0.1 %
Carbon Dichloride≤30 ppm
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Specification99.999%
Moisture≤10 ppm
Acidity (as HF)≤0.1 ppm
Nitrogen≤4 ppm
Oxygen≤1 ppm
Carbon Monoxide≤0.5 ppm
Carbon Dioxide≤0.5 ppm
Methane≤0.5 ppm
Other Organics≤ 1ppm
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Cylinder CapacityValveWeight
40LXF-430 kgs
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]]> 八氟丙烷 Perfluoropropane, C3F8 http://www.monihotel.com/product/__trashed-8/ Thu, 16 Mar 2023 08:26:23 +0000 https://www.xenon-gas.com/?post_type=product&p=1184
CAS?NO 76-19-7
UN?NO 2424
EINECS NO 200-941-9
Molecular weight 188.02
Appearance Colorless, Odorless
Melting point -183 °C
Boiling point -39 °C
Density 1.35
DOT Class ?2.2
Label ?Non-flammable Gas
]]> 八八氟丙烷(C3F8，又稱全氟丙烷、R218)是-一種穩定性好的全氟化合物，標準狀態下為無色氣體，在水和有機物中溶解度都很小。在半導體工業中，八氟丙烷與氧氣的混合氣用作等離子蝕刻材料，會選擇性地與硅片的金屬基質作用。
在微電子工業中用于等離子蝕刻以及器件表面清洗，也用于低溫制冷、醫療用氣及氣體絕緣等。

產品應用

微電子工業中用于等離子蝕刻以及器件表面清洗

用于低溫制冷、醫療氣體和氣體絕緣等。

用于冰箱和板的發泡聚胺絕熱材料。

氣體純度

Specification≥99.999%
Hydrogen＜0.5
O2+Ar＜ 1
Nitrogen＜ 3
CO＜ 0.5
CO2＜ 0.5
CH4＜ 0.5
OHC＜ 1
H2O＜ 1
Total Impurity Concent≤10
Acidity as HF＜ 0.1
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Cylinder CapacityValveN.W
47LDISS71640.00kg
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]]> 三氟化氮，Nitrogen Trifluoride, NF3 http://www.monihotel.com/product/nitrogen-trifluoride-nf3-specialty-gas/ Thu, 09 Mar 2023 03:20:11 +0000 http://www.xenon-gas.com/?post_type=product&p=976 CAS No. ?7783-54-2 UN No. ?2451 EINECS No. ?232-007-1 Molecular weight ?71.0019 Appearance ?colourless, odourless Melting point ?-206.79℃ Boiling point ?-129.0℃ Density ?2.96kg/m3 DOT Class ?2.2 & 5.1 Label ?Non-flammable Gas, Oxidizing Agent ]]> 三氟化氮是用作氟化氫-氟化氣高能化學激光器的氟源，在h2-O2 與F2之間反應能的有效部分(約25%)可以以激光輻射釋放出，所HF-OF激光器是化學激光器中最有希望的激光器。三氟化氮是微電子工業中一種優良的等離子蝕刻氣體，對硅和氮化硅蝕刻，采用三氟化氮比四氟化碳和四氟化碳與氧氣的混合氣體有更高的蝕刻速率和選擇性，而且對表面無污染，尤其是在厚度小于1.5um的集成電路材料的蝕刻中，三氟化氮具有非常優異的蝕刻速率和選擇性，在被蝕刻物表面不留任何殘留物，同時也是非常良好的清洗劑。

產品應用

用于氟化氫和氟化氘激光,這是化學激光的一種。

良的等離子蝕刻氣體。

氣體純度

Specification99.99%
Carbon Tetrafluoride≤40 ppm
Nitrogen≤10 ppm
Oxygen+Argon≤5 ppm
Carbon Monoxide≤1 ppm
Carbon Dioxide≤3 ppm
Nitrous Oxide≤3 ppm
Sulfur Hexafluoride≤3 ppm
Moisture≤1 ppm
Express as HF≤1 ppm
若有其他純度或等級要求請聯系我們
Specification99.996%
Carbon Tetrafluoride≤20 ppm
Nitrogen≤5 ppm
Oxygen+Argon≤3 ppm
Carbon Monoxide≤1 ppm
Carbon Dioxide≤0.5 ppm
Nitrous Oxide≤1 ppm
Sulfur Hexafluoride≤2 ppm
Moisture≤1 ppm
Express as HF≤1 ppm
若有其他純度或等級要求請聯系我們

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Cylinder CapacityValveWeight
10LDISS6404 kgs
47LDISS64020 kgs
440LDISS640195 kgs
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