Non-toxic and
Non-flammable Gas
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由于其滅火效能高,毒性低,對大氣臭氧層無破壞性、對使用現場無污染,它被認為是哈龍1301的一種理想替代品,已被美國國家防火協會列入NFPA2001滅火用品標準。另外,七氟丙烷還被用作致冷劑和醫用噴射劑。
Specification | 99.9% |
---|---|
Moisture | ≤ 0.001 % |
Acidity (as HCL) | ≤ 0.0001 % |
High Boiling Residue | ≤ 0.01 % |
extinguishing concentration | 6.7±0.2 |
Paralysis | No paralysis symptoms and characteristics |
Irritation | No irritation symptoms and characteristics |
Cylinder Capacity | Valve | Weight |
---|---|---|
926L | QF-13 | 1000 kgs |
At normal temperature and pressure for a strong pungent smell of yellow-green highly toxic gas
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化學工業用于生產次氯酸鈉、鋁三氯化,氯化鐵,漂白劑粉、溴、三氯化磷和其他無機化工產品,同時也用于生產有機氯化物、氯乙酸、環氧氯丙烷、苯等。
主要用于生產塑料(如PVP)、合成纖維、染料、殺蟲劑、消毒劑、漂白劑溶劑和各種氯化物。
Specification | >99.999% |
---|---|
H2O | 0.172ppmv |
O2+Ar | < 0.01ppmv |
N2 | < 0.01ppmv |
H2 | < 0.02ppmv |
CO | < 0.01ppmv |
CO2 | 0.04 |
CH4 | < 0.01ppmv |
Fe | 0.041 |
Cr | 0.019 |
Cu | < 0.010 |
Zn | < 0.010 |
Cylinder Capacity | Valve | Quantity |
---|---|---|
47L | DISS634 | 50kg |
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用于制造火箭的高能燃料。
BF3作為催化劑在有機合成,作為有機硼化物的合成的原料,也用于核能技術和光纖。
電子特氣三氟化硼主要用于半導體器件和集成電路生產中離子注入和摻雜。
Specification | 99.5% |
---|---|
Air | ﹤4000 ppm |
Sulfur Dioxide | ﹤30 ppm |
Silicon Tetrafluoride | ﹤350 ppm |
Sulfate Radical | ﹤15 ppm |
Cylinder Capacity | Valve | Weight |
---|---|---|
40L | CGA330 | 20 kgs |
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在電子產業中,三氟甲烷可用作等離子體化學蝕刻劑,在二氧化硅膜刻蝕方面具有速度快、選擇性優等特點。
主要用作低溫致冷劑、滅火劑和制造四氟乙烯的原料。
Specification | 99.9% |
---|---|
Moisture | ≤ 2 ppm |
Acidity (as HF) | ≤0.1 mg/kg |
Reside on evaporation | ≤0.01 % |
Foul gas in air phase | ≤0.1 % |
Carbon Dichloride | ≤30 ppm |
Specification | 99.999% |
---|---|
Moisture | ≤10 ppm |
Acidity (as HF) | ≤0.1 ppm |
Nitrogen | ≤4 ppm |
Oxygen | ≤1 ppm |
Carbon Monoxide | ≤0.5 ppm |
Carbon Dioxide | ≤0.5 ppm |
Methane | ≤0.5 ppm |
Other Organics | ≤ 1ppm |
Cylinder Capacity | Valve | Weight |
---|---|---|
40L | XF-4 | 30 kgs |
CAS?NO | 76-19-7 |
UN?NO | 2424 |
EINECS NO | 200-941-9 |
Molecular weight | 188.02 |
Appearance | Colorless, Odorless |
Melting point | -183 °C |
Boiling point | -39 °C |
Density | 1.35 |
DOT Class | ?2.2 |
Label | ?Non-flammable Gas |
微電子工業中用于等離子蝕刻以及器件表面清洗
用于低溫制冷、醫療氣體和氣體絕緣等。
用于冰箱和板的發泡聚胺絕熱材料。
Specification | ≥99.999% |
---|---|
Hydrogen | <0.5 |
O2+Ar | < 1 |
Nitrogen | < 3 |
CO | < 0.5 |
CO2 | < 0.5 |
CH4 | < 0.5 |
OHC | < 1 |
H2O | < 1 |
Total Impurity Concent | ≤10 |
Acidity as HF | < 0.1 |
Cylinder Capacity | Valve | N.W |
---|---|---|
47L | DISS716 | 40.00kg |
CAS?NO | ?7783-60-0 |
UN?NO | ?2418 |
EINECS NO | ?232-013-4 |
Molecular weight | ?108.06 |
Appearance | ?Colorless |
Melting point | ??121.5~?120.5℃ |
Boiling point | ??40.4℃ |
Density | ?1.95g/m |
DOT Class | ?2.3+8 |
Label | ?Toxic Gas, Corrosives |
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氟化劑精細化學品、液晶材料和高端制藥工業生產。
用作電子氣體。
Specification | 99% |
---|---|
Oxygen + Argon | ≤ 0.1% |
Sulfur Hexafluoride | ≤ 0.2% |
Carbon Tetrafluoride | ≤ 0.1% |
Hydrogen Fluoride | ≤ 0.1% |
Other SxFy | ≤ 0.5% |
Disulfide Difluoride | ≤ 0.2% |
Cylinder Capacity | Valve | Weight |
---|---|---|
10L | CGA330 | 5 kgs |
CAS?NO | ?115-25-3 |
UN?NO | ?1976 |
EINECS NO | ?204-075-2 |
Molecular weight | ?200.03 |
Appearance | ?Colorless, Odorless |
Melting point | ?-41.4 ℃ |
Boiling point | ?-6 ℃ |
Density | ?6.9 kg/m3 |
DOT Class | ?2.2 |
Label | ?Non-flammable Gas |
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與六氟化硫混合作電解質、含氟化合物聚合時的介質,半導體設備等的生產工藝中的蝕刻或清潔氣體。
該產品可作為替代CFC-12的混合制冷劑的組分之一,是對臭氧層完全無破壞的長久性替代品,還可作氣霧劑。
Specification | 99.999% |
---|---|
Oxygen + Argon | ≤ 1 ppm |
Nitrogen | ≤ 2 ppm |
Hydrogen | ≤ 0.5 ppm |
Carbon Monoxide | ≤ 0.5 ppm |
Carbon Dioxide | ≤ 0.5 ppm |
Methane | ≤ 0.5 ppm |
OHC | ≤ 2 ppm |
Moisture | ≤ 3 ppm |
Acidity as HF | ≤ 0.1 ppm |
Cylinder Capacity | Valve | Weight |
---|---|---|
47L | DISS716 | 50kgs |
它是最常用在微電子工業等離子體蝕刻氣體。
四氟化碳高純氣體和四氟化碳高純氣體的混合物和高純氧可廣泛用于蝕刻硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃和鎢薄膜材料。
也廣泛應用于電子設備的表面清洗、太陽能電池生產、激光技術、低溫制冷、泄漏檢查,除污劑在印刷電路板生產。
Specification | 99.999% |
---|---|
Oxygen + Argon | ≤ 1 ppm |
Nitrogen | ≤ 2 ppm |
Hydrogen | ≤ 0.3 ppm |
Carbon Monoxide | ≤ 0.3 ppm |
Carbon Dioxide | ≤ 0.3 ppm |
Sulfur Hexafluoride | ≤ 0.3 ppm |
THC | ≤ 0.3 ppm |
Trifluoromethane | ≤ 0.3 ppm |
OFC | ≤ 1 ppm |
Moisture | ≤ 1 ppm |
Acidity as HF | ≤ 0.1 ppm |
Cylinder Capacity | Valve | Weight |
---|---|---|
47L | CGA580 | 30kgs |
在化學和生物化學領域生產含重氫的化合物。痕量的分子可用于研究反應率和反應機制。 在半導體、平板顯示器、太陽能電池等電子行業在硅燒結或退火工藝中置換氫。
應用于核子融合反應。
生產含重氫的化合物在化學和生物化學領域。氘分子的數量可以用來研究反應速率和反應機理。
氫取代硅燒結和退火過程在半導體、平板顯示器、太陽能電池等電子行業。
應用于核聚變反應。
Specification | 99.999% |
---|---|
Carbon Dioxide | ﹤0.5 ppm |
Carbon Monoxide | ﹤0.5 ppm |
Hydrogen Deuteride | ﹤3000 ppm |
Hydrogen | ﹤ 10 ppm |
Nitrogen | ﹤10 ppm |
Oxygen | ﹤1 ppm |
THC | ﹤1 ppm |
Water/Heavy Water | ﹤1 ppm |
Cylinder Capacity | Valve | Volume | bar | psig |
---|---|---|---|---|
8L | CGA350 | 1 m3 | 125 | 1812.5 |
40L | CGA350 | 4.5 m3 | 112.5 | 1631.25 |
一氧化二氮可以用作火箭氧化劑。
麻醉性氣體,曾經廣泛被應用于醫學手術中。
生產工業硝酸,亞硝酸鹽。
Specification | 99.9% |
---|---|
Oxygen+Argon | ≤ 200 ppm |
Nitrogen | ≤ 600 ppm |
Carbon Monoxide | ≤ 20 ppm |
Moisture | ≤ 30 ppm |
Specification | 99.999% |
---|---|
Oxygen+Argon | ≤ 200 ppm |
Nitrogen | ≤ 600 ppm |
Carbon Monoxide | ≤ 20 ppm |
Moisture | ≤ 30 ppm |
Cylinder Capacity | Valve | Weight |
---|---|---|
10L | 5/8G | 6kg |
40L | CGA540 | 24kgs |
44L(5N) | CGA326 | 27kgs |
47L(5N) | CGA326 | 27kgs |
50L | CGA540 | 30 kgs |
ISO TANK | – | 19 Tons |