三氟化氮，Nitrogen Trifluoride, NF3

CAS No.	?7783-54-2
UN No.	?2451
EINECS No.	?232-007-1
Molecular weight	?71.0019
Appearance	?colourless, odourless
Melting point	?-206.79℃
Boiling point	?-129.0℃
Density	?2.96kg/m³
DOT Class	?2.2 & 5.1
Label	?Non-flammable Gas, Oxidizing Agent

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描述

三氟化氮是用作氟化氫-氟化氣高能化學激光器的氟源，在h2-O2 與F2之間反應能的有效部分(約25%)可以以激光輻射釋放出，所HF-OF激光器是化學激光器中最有希望的激光器。三氟化氮是微電子工業中一種優良的等離子蝕刻氣體，對硅和氮化硅蝕刻，采用三氟化氮比四氟化碳和四氟化碳與氧氣的混合氣體有更高的蝕刻速率和選擇性，而且對表面無污染，尤其是在厚度小于1.5um的集成電路材料的蝕刻中，三氟化氮具有非常優異的蝕刻速率和選擇性，在被蝕刻物表面不留任何殘留物，同時也是非常良好的清洗劑。

產品應用

Name: 三氟化氮，Nitrogen Trifluoride, NF3
SKU: 976
Availability: InStock

用于氟化氫和氟化氘激光,這是化學激光的一種。

良的等離子蝕刻氣體。

氣體純度

Specification	99.99%
Carbon Tetrafluoride	≤40 ppm
Nitrogen	≤10 ppm
Oxygen+Argon	≤5 ppm
Carbon Monoxide	≤1 ppm
Carbon Dioxide	≤3 ppm
Nitrous Oxide	≤3 ppm
Sulfur Hexafluoride	≤3 ppm
Moisture	≤1 ppm
Express as HF	≤1 ppm

若有其他純度或等級要求請聯系我們

Specification	99.996%
Carbon Tetrafluoride	≤20 ppm
Nitrogen	≤5 ppm
Oxygen+Argon	≤3 ppm
Carbon Monoxide	≤1 ppm
Carbon Dioxide	≤0.5 ppm
Nitrous Oxide	≤1 ppm
Sulfur Hexafluoride	≤2 ppm
Moisture	≤1 ppm
Express as HF	≤1 ppm

若有其他純度或等級要求請聯系我們

包裝信息

Cylinder Capacity	Valve	Weight
10L	DISS640	4 kgs
47L	DISS640	20 kgs
440L	DISS640	195 kgs

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歡迎參觀

售后服務&物流服務

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